,NAURA刻蚀机研发团队见证了这一历史性时刻。
北方华创表示,这不仅是公司发展征程中的重要里程碑,更是国产刻蚀机在历经了20年自主创新后得到客户广泛认可的重要标志,未来会持续在等离子刻蚀ICP技术领域寻求更多突破。
北方华创科技集团股份有限公司成立于2001年,由北京七星华创电子股份有限公司、北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司战略重组而成,是目前国内集成电路高端工艺装备的先进企业。
北方华创成立后就开始组建团队钻研刻蚀技术,2004年第一台设备成功起辉,2005年第一台8英寸ICP刻蚀机在客户端上线,并于2007年获得国家科学技术进步二等奖。
目前,北方华创的刻蚀设备已经覆盖集成电路、LED、先进封装、功率半导体、MEMS微机电系统、化合物半导体、硅基微显、分析仪器、功率器件、光通信器件等多个领域,硅刻蚀机已突破14nm技术,进入主流芯片代工厂。
其中,12英寸ICP刻蚀机在实现客户端28nm国产化替代,并在14/7nm SADP/SAQP、先进存储器、3D TSV等工艺应用中发挥着重要作用。
所谓等离子干法刻蚀,就是利用等离子体进行薄膜微细加工的技术,具有良好的各向异性、工艺可控性,广泛应用于微电子产品制造领域。
在典型的干法刻蚀工艺过程中,一种或多种气体原子或分子混合于反应腔室中,在外部能量作用下(如射频、微波等)形成等离子体。
另外,很多人可能分不清光刻机、刻蚀机。最简单地说,光刻机把电路图投影到覆盖有光刻胶的硅片上面,刻蚀机则是画了电路图的硅片上的多余电路图腐蚀掉。
再打个比方,光刻机是照相机,刻蚀机就是显影设备。
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