9 月 3 日消息,日经报道称,英特尔将与日本产业技术综合研究所(AIST)在日本建立芯片研发基地,新设施将在三到五年内建成,配备极紫外线光刻(EUV)设备。 ...
6 月 14 日消息,全球研发机构 imec 表示阿斯麦(ASML)计划 2030 年推出 Hyper-NA EUV 光刻机,目前仍处于开发的“早期阶段”。 ...
5 月 15 日消息,台积电张晓强博士于 5 月 14 日出席在阿姆斯特丹举办的技术研讨会,他直言:“ASML 的 High-NA EUV 太贵了,我非常喜欢 High-NA EUV 的能力,但不喜 ...
11月6日消息,日本佳能一直在投资纳米压印(Nano-imprint Lithography,NIL)这种新的芯片制造技术,并计划将新型芯片制造设备的价格定在阿斯麦最好光刻机的很小一部分,从而在光刻机 ...
本文操作环境:Windows7系统,Dell G3电脑。 ...
这篇文章主要介绍euv和duv区别有哪些,文中介绍的非常详细,具有一定的参考价值,感兴趣的小伙伴们一定要看完! euv和duv区别:1、duv基本上只能做到25nm,而euv能满足10nm以下的晶圆 ...
2 月 11 日消息,据 TheElec 报道,韩国 EUV 设备制造商 ESOL 首席执行官 Kim Byung-gook 在接受采访时表示,今年将推出其第二代 EUV(极紫外)设备原型。 ...
芯片制造离不开光刻机,且制程越先进,其重要性越凸出,占芯片制造总成本比例也越高,总体来看,光刻机的成本占总设备成本的30%。 ...
8月27日晚间消息,中芯国际发布了2021年中报。 财务数据显示,中芯国际上半年营收160.9亿元,同比增长22.3%。 ...
  7月12日,SK海力士正式对外宣布开始量产适用第四代10纳米(1a)级工艺的8Gigabit(Gb) *LPDDR4移动端DRAM产品。 ...
存储芯片厂商 SK 海力士 2 月 1 日宣布,其公司位于韩国首尔南部利川市的 M16 新厂已经竣工,SK 海力士将首次使用极紫外辐射(EUV)光刻机在生产存储芯片。 ...
继SK海力士日前宣布在M14和建设中的M16工厂均引入EUV光刻机后,三星也坐不住了。 ...
得益于先进的工艺,台积电今年的营收又要创新高,即便是没有了华为这样的客户,也丝毫不受影响。 ...
在半导体工艺进入7nm之后,EUV光刻机就成为兵家必备大杀器了,全球也只有ASML公司能生产,单价达到10亿人民币一台。不过在EUV技术上,ASML还真不一定就是第一,专利比三星还少。 ...
()台积电表示其部署的极紫外光(EUV)光刻工具已占全球安装和运行总量的50%左右,这意味着其使用的EUV机器数量超过了业内其他任何一家公司。 ...

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